射頻等離子體系統是目前應用範圍及使用用途最廣泛的等離子體技術，它在低壓真空環境下被廣泛應用於工業、半導體和醫療設備應用領域，例如用於生產碳化矽粉末和等離子體發生器以及進行等離子體 消融手術等。
需要表面清洗、塗層或化學改質的材料表面浸入射頻等離子的高能量環境。 儘管它們會受到化學反應性種類的影響，這些化學種類透過大量射頻等離子系統的定向效應被帶到他們的表面。 在適當的條件下，這些定向效應可以帶來更多的動量。 等離子系統可以物理性地去除更多的惰性表面污染物和交聯聚合物，從而將等離子體處理鎖定在適當的位置
等離子系統可依客戶具體應用及吞吐量需求而量身訂做。 腔室、電極、發電機和真空幫浦均可根據待加工的特定基材的尺寸和形狀進行調整。 例如，發電機頻率可選範圍有40 kHz, 100 kHz, 150 kHz, 13.56 MHz，功率可選範圍從1瓦到2000瓦，取決於特定製程需求。
PVA TePla 專注於工程設計，我們的射頻等離子系統可為滿足特定應用精準需求而量身設計，無需增加多餘成本，也可普遍滿足客戶特定預算要求。
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