PulsPlasma® 氮化系統

PulsPlasma® 氮化系統是一款使用在等離子體擴散製程的真空爐,能夠讓零件表面富含氮和/或碳,進而提高抗磨損和抗腐蝕性。 PlaTeG脈衝等離子體®擴散工藝,尤其是脈衝等離子體®氮化(PPNTM)和脈衝等離子體®軟氮化(PPNCTM)。相較於傳統的氮化工藝(如鹽浴軟氮化或氣體氮化),這兩種等離子體擴散方法,能為客戶提供了更多益處,而且節約資源,對環境也更友善。

  • 工藝氣體和電力消耗低
  • 使用環保工藝氣體
  • 彈性的處理溫度,溫度範圍350℃ - 600℃
  • 可選擇使用機械蓋板進行局部處理
  • 用於處理高合金鋼和不銹鋼(保持抗腐蝕能力)
  • 可對氮化層結構進行監測
  • 用於處理燒結的鐵/鋼以及鈦和鋁等有色金屬

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PulsPlasma®發生器技術/最新技術 / 新技術

脈衝電流和電壓幾乎是方波脈衝的形式,這代表必要的等離子體輸出能夠快速、最佳和幾乎無損耗地傳送到要處理的部件。脈衝和暫停的時間可以設定在30微秒到999微秒之間的任何數值。因此,我們的最新技術不只能夠觀察氮化層的結構,也能夠防止部件過熱。

  • 用於單極和/或雙極操作
  • 透過快速關機抑制電弧(< 0.1 µs)
  • PlaTeG PulsPlasma®發生器在室溫下也能提供穩定的輝光放電等離子體
  • 優化了PlaTeG-PPSATM技術,有助於縮短處理時間並獲得均勻的結果

我們的工業爐

  • PlaTeG-PP120

    尺寸:直徑1000 x 深度1800

    根據裝載產品和所需的處理結果,可以進行各種PulsPlasma® 擴散工藝:

     

    1. PPNTM-PulsPlasma ® 氮化:透過氮的擴散提高大多數鋼、鈦和鋁的抗磨損和抗腐蝕性。
    2. PPCNTM-脈衝等離子體®軟氮化:透過氮和碳的擴散增強鋼的抗磨損和抗腐蝕性。
    3. PPCTM-PulsPlasma ® 滲碳:透過碳的擴散提高不銹鋼的抗磨損和抗腐蝕性。
    4. PPOTM-PulsPlasma ®氧化處理:對鋼鐵表面進行氧化處理,能夠提高耐腐蝕性並降低摩擦係數。
    5.  LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM對鉻含量大於13%的鋼製部件進行處理,在保持耐腐蝕性的同時還可以提高耐磨性。

    設備類型 / 靈活可靠的流程

    根據客戶的需求及相關應用,可對爐子進行量身設計

    1. 鐘罩式系統(標準)
    2. 井室爐
    3. 臥式爐 (水平)

    PVA TePla深信簡化系統及部件的處理,同時確保安全性是極為重要的事。

    為此,我們不斷與時俱進,自主研發並設計出多款卓越且適應性強的系統。

    H-臥式爐:

    用於大型和重型零件

    M-單室型設備:

    帶有一個真空鐘罩

    S-交替型設備:

    帶有一個真空鐘罩和兩個鐘罩底座

    T-雙室型設備:

    帶有兩個真空鐘罩和兩個鐘罩底座

  • 更多設備規格

    PlaTeG PP60, 直徑700 x 1000有效空間:直徑600 mm x 700 mm 批重量:500kg 連接功率:49kW

    • 有效空間:直徑600 mm x 700 mm
    • 批重量:500kg
    • 連接功率:49kW

    PlaTeG PP120, 直徑 1000 x 1600

    • 有效空間:直徑800 mm x 1200 mm
    • 批重量:2000kg
    • 連接功率:100kW

    PlaTeG PP200, 直徑1200 x 2000

    • 有效空間:直徑1000 mm x 1500 mm
    • 批重量:3000kg
    • 連接功率:150kW

    PlaTeG PP300, 直徑1400 x 2500

    • 有效空間:直徑1200 mm x 2000 mm
    • 批重量:5000kg
    • 連接功率:217kW

    PlaTeG PP500, 1,800 diameter x 2,900

    • Effective space: 1600 mm diameter x 2200 mm
    • Batch weight 8000 kg
    • Connected power 327 kW