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VGF(垂直梯度凝固法)系統
Kronos
Kronos系統採用垂直梯度凝固法(VGF)來解決基本工藝問題,即使是組成成分有高蒸氣壓的材料,這套系統的高工作壓力仍可將其結晶。這套系統能在10-40巴的壓力範圍內,用來結晶不同種類的化合物半導體,因此使用這種方法可實現工業化生產晶體,例如,我們可以在最大10巴的壓力下,使用標準版來生產砷化鎵(GaAs),也可以在最大40巴的壓力下,使用標準版來生產磷化銦(InP)。同時,PVA開發的一套移動式系統可以使充電和排空時更加便捷。
產品資訊概覽
材料:砷化鎵,磷化銦
坩堝直徑: | 4–6" |
坩埚高度: | 高達450 mm |
爐室直徑: | 800 mm |
爐室高度: | 975 mm |
工作壓力: | 最大 40 bar |
尺寸規格 | |
高度: | 2,900 mm |
寬度: | 1,650 mm |
深度: | 1,350 mm |
設備總重量: | 3,500 kg |