VGF(垂直梯度凝固法)系統

Kronos

Kronos系統採用垂直梯度凝固法(VGF)來解決基本工藝問題,即使是組成成分有高蒸氣壓的材料,這套系統的高工作壓力仍可將其結晶。這套系統能在10-40巴的壓力範圍內,用來結晶不同種類的化合物半導體,因此使用這種方法可實現工業化生產晶體,例如,我們可以在最大10巴的壓力下,使用標準版來生產砷化鎵(GaAs),也可以在最大40巴的壓力下,使用標準版來生產磷化銦(InP)。同時,PVA開發的一套移動式系統可以使充電和排空時更加便捷。 

產品資訊概覽

材料:砷化鎵,磷化銦 

坩堝直徑: 4–6"
坩埚高度: 高達450 mm
   
爐室直徑: 800 mm
爐室高度: 975 mm
工作壓力: 最大 40 bar
尺寸規格    
高度: 2,900 mm
寬度: 1,650 mm
深度: 1,350 mm
設備總重量:    3,500 kg